DED-EB/M

电子束定向能量沉积

DED工艺：在真空中以电子束为能量源，通常与送丝相结合（EBAM）。

工作原理与工艺流程

工作原理： Ein Elektronenstrahl schmilzt Metalldraht im Hochvakuum auf.

工艺流程： Vakuumkammer evakuieren → Drahtzuführung und Strahlführung synchronisieren → Abfahren der Geometrie.

能量源： Elektronenstrahl.
原料/进料方式： Metalldraht (meistens) oder Metallpulver.
典型零件尺寸： Sehr groß (abhängig von der Vakuumkammergröße, bis zu mehreren Metern).
沉积速率： Sehr hoch (bis zu 15 kg/h).
精度： Gering bis mittel.
表面质量： Rau.

典型材料： Titan (insbesondere für Großbauteile), Refraktärmetalle, Nickelbasislegierungen.

典型应用： Riesige Titan-Strukturbauteile, Drucktanks für Raketen.

行业领域： Raumfahrt, Verteidigung, Luftfahrt.

Exzellente metallurgische Qualität durch Vakuum (keine Verunreinigungen, keine Oxidation), extrem hohe Aufbauraten.

缺点： Beschränkt auf die Größe der teuren Vakuumkammer, extreme Anlagekosten.

局限性： Vakuumkammergröße ist das absolute physikalische Limit.

Wirtschaftlich ausschließlich bei enorm großen, sehr teuren Titanbauteilen (verbessert Buy-to-Fly Ratio drastisch gegenüber Schmiedeblöcken).

Schneller und metallurgisch reiner als DED-Arc/M (WAAM), jedoch durch die Vakuumkammer infrastrukturell unvergleichbar aufwendiger.

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